2004年１月主催行事
本会主催行事の参加費はいずれも消費税込みの料金です．

2004年１月主催行事

04-5ポリマーフロンティア21

主題＝健康と医療-長寿日本の21世紀型ビジネス-
＜趣旨＞高分子材料は水浄化や透析などで「縁の下の力持ち」として活躍してきましたが，今，高齢化社会での健康的な生活という社会ニーズにも応えようとしています。細菌毒素や環境ホルモンの除去や，虫歯予防，遺伝子診断チップなどの予防・診断から，人工血液，再生医療の細胞培養膜，レンズ型の投薬システムなど，治療の場面でも潜在的な力を見せ始めています。本講演では21世紀型市場でのビジネスチャンスのヒントをつかむために，これからの最前線をご紹介していきます。
主　催 高分子学会　行事委員会
協　賛 （予定）日本化学会
日　時 1月14日（金）10 : 20〜17 : 20
会　場 東京工業大学　百年記念館フェライト会議室（3階） （東京都目黒区大岡山2-12-1　TEL 03-5734-3331）
交　通 東急目黒線･東急大井町線　大岡山駅下車　徒歩約1分 http://www.titech.ac.jp/access-and-campusmap/j/o-okayama-campus-j.html
プログラム
＜10 : 20〜11 : 20＞
  1. アレルギー物質を取り除け〜アレルバスターフィルターの開発〜
    （松下エコシステムズ）中島隆弘
    室内空気汚染の顕在化により室内環境におけるダニや花粉などのアレルゲンへの対策が求められるようになってきた。その対応として開発した，フェノール系ポリマーを用いたアレルゲン低減化フィルターの内容を概説する。
＜11 : 20〜12 : 20＞
  1. 健康を着る〜身体に良い機能性繊維の開発〜
    （富士紡績）糸山光紀
    固定化された薬剤を着用時に皮膚へ徐放させる機能をもった機能性繊維を開発した。本講演では，ビタミンCなどのおもに化粧品に用いられている薬剤を固定化した繊維について，その耐洗濯性，徐放性を中心に述べたい。
＜13 : 10〜14 : 10＞
  1. 熱応答性磁性ナノ粒子（商品名：Therma-Max）を用いた医療診断
    （チッソ石油化学）大西徳幸
    診断薬のより高感度化を目的とし，水溶液中でわずかな温度変化で分散凝集を可逆的に繰り返す，熱応答性磁性ナノ粒子（当社名：Therma-Max）を開発した。
＜14 : 10〜15 : 10＞
  1. 貼って治す〜人に優しいテープ製剤〜経皮吸収型テープ製剤の開発〜
    （日東電工）仲野善久
    近年，治療上の有用性を向上させるためのDDS開発が活発に行われている。その中でも，とくに，皮膚から薬物を吸収させる経皮吸収型製剤は人に優しい投与方法として注目されており，この製剤の特徴について紹介を行う。
＜15 : 20〜16 : 20＞
  1. 高分子技術が再生医療ビジネスの武器になる
    （帝人）鷲見芳彦
    再生医療は，細胞・組織の移植や自己再生能力による新医療であるが，細胞を支持する担体としてのScaffoldが重要な役割を果たす。とくに微細加工技術をScaffold作成に活かすことがビジネス化の決め手となる。
＜16 : 20〜17 : 20＞
  1. 高齢化社会における医療は高分子が支える
    （京大再生医科研）岩田博夫
    わが国は急速に，超高齢化社会へと向きつつある。再生医療は高齢者にとってまさに最適の医療法である。講演では再生医療に実例を示しながら必要とされる高分子技術について論じる。
参加要領 1) 定員100名2) 参加費(1)会社21,000円　(2)大学・官公庁10,500円　(3)学生・ゴールド・シルバー3,150円　(4)年会費制登録団体*1　年会費制を登録されている団体からの参加は何名様でも割引料金となります。　(1)会社16,800円　(2)大学・官公庁8,400円（*1詳細はhttp://www.spsj.or.jp/c18/nenkaihisei_main.htmlをご覧ください。）　3) 申込方法　こちらをダウンロードして記入し，FAXまたは郵送にて送付ください。開催約1カ月前より参加証，請求書を送付いたしますので，請求書到着後，1月末日までに必ずご送金ください。
申込先 高分子学会　04-5ポリマーフロンティア21係

第14回光反応・電子用材料研究会講座

主題＝光リソグラフィーの延命化とレジスト材料
＜趣旨＞90 nmノードのデバイス量産が始まりArFリソグラフィーが本格的に使用されます。65 nm，45 nmノードにもArFリソグラフィーを延命化して使用することが本命視されています。本研究会講座では，このような光リソグラフィーの延命化に用いられるレジストとその材料，プロセス，解析について，液浸リソグラフィーを含む最新の技術を把握できるように，専門の先生方からの講演を企画しました。
主　催 高分子学会　光反応・電子用材料研究会
協　賛 （予定）応用物理学会　日本化学会
日　時 1月26日（水）10 : 00〜16 : 45
会　場 東京工業大学百年記念館フェライト会議室（東京都目黒区大岡山2-12-1　TEL 03-5734-3331）
交　通 東急目黒線･東急大井町線大岡山駅下車　徒歩1分（http://www.titech.ac.jp/access-and-campusmap/j/o-okayama-campus-j.html参照）
講　演
I.　基調講演　＜10 : 00〜12 : 00＞
  1. 微細加工用フォトレジスト材料の新展開（阪府大院工）白井正充
  2. 液浸リソグラフィー/レジストの開発動向（松下電産）遠藤政孝
II.　微細パターン形成と解析　＜13 : 00〜16 : 45＞
  1. FIRMプロセスによる微細パターンの倒れ抑制効果（東京エレクトロン九州）山村健太郎
  2. AFMによる微細レジストパターンと純水間に働く相互作用の微視的解析（長岡技科大）河合　晃
III.　光酸発生剤
  1. 非イオン性光酸発生剤の開発状況（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ）山戸　斉
IV.　ArF/ArF液浸レジスト
  1. 新ArFレジストの開発（東工大院理工）上田　充
  2. ArF液浸リソグラフィーに向けての材料設計(JSR)楠本士朗
  3. 45 nmノードに向けたArFレジストの開発状況（東京応化）岩井　武
  4. ArF液浸露光向けレジスト材料（信越化学）畠山　潤
参加要領 1) 定員100名　2) 参加費(銀行振込，含協賛学協会員)　(1)会社13,650円　(2)大学・官公庁5,250円　(3)学生・ゴールド・シルバー　2,100円　(4)光反応･電子用材料研究会メンバー（会社10,500円，大学・官公庁4,200円）　3) 申込方法　こちらをダウンロードして記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費をご送金ください。参加証は順次ご送付したします。
申込先 高分子学会　第14回光反応・電子用材料研究会講座